Opis

Układ Rapid Thermal Process System AccuThermo AW-610 pozwala na precyzyjne wygrzewanie próbek w temperaturze nawet 1200°C z niezwykle dokładną kontrolą temperatury w różnych otoczeniach gazowych, takich jak tlen, argon czy azot.

Parametry

• Maksymalna temperatura: 1200°C
• Dostępne otoczenia gazowe z regulowanym przepływem gazu: argon, azot, tlen.
• Maksymalna wzrost temperatury: 100°C/s
• Maksymalna wielkość średnicy podłoża: 4 cale
• Stablizacja temperatury wygrzewania na poziomie
  1°C

Zastosowania

Procesy wygrzewania są niezwykle istotnym etapem w przygotowywaniu różnego typu struktur elektronicznych i optoelektronicznych, w trakcie których właściwości poszczególnych elementów mogą być znacząco modyfikowane, np. poprzez dyfuzje domieszek czy rekrystalizację. Procesy wygrzewania RTP mają również zastosowania w przygotowywaniu kontaktów elektrycznych do struktur półprzewodnikowych, czy w przygotowywaniu podłóż przed różnego typu procesami wzrostu kryształów, warstw i nanostruktur.