Materiały - Warstwy ZnO:Al dla fotowoltaiki drugiej generacji

 

Opis

W ostatnich latach obserwuje się silną konkurencję ogniw fotowoltaicznych II-generacji z tradycyjnymi krzemowymi komórkami PV. II-generacja ogniw fotowoltaicznych bazuje na cienkich warstwach siarczku kadmu (CdS) jako n‑typu partner dla p-typu tellurku kadmu. Jednym z największych problemów takich ogniw PV jest stabilność omowego kontaktu do warstwy p-typu CdTe. Rozwiązaniem tego problemu może być użycie p-typu ZnTe jako partnera dla warstw n-typu CdTe. Opracowaliśmy  warstwę tlenku cynku domieszkowanego glinem jako stabilny w czasie omowy kontakt do warstw p‑typu ZnTe. warstwa TCO osadzana jest w procesie ALD.

 

Parametry

  • Temperatury wzrostu: 160oC
  •  Maksymalna wielkość podłoża: 20 cm średnicy
  • Grubość warstwy ZnO:Al: 300 nm
  • Elektryczne parametry warstwy ZnO:Al:

                   n=3.6x1020 cm-3

                   ρ=1.2x10-3 Ωcm

  • Jednorodne pokrycie podłóż o bardzo rozbudowanej (trójwymiarowej) powierzchni
  • Kontrolowany wzrost w skali nanometrowej

Charakterystyka prądowo-napięciowa omowego kontaktu dla warstwy p-typu ZnTe.


Osoby do kontaktu: prof. Marek Godlewski, e-mail: godlew@ifpan.edu.pl, tel: (+48) 22 116 32 57
prof. Leszek Sirko, e-mail: director@ifpan.edu.pl, tel: + 48 22 116 2111
Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk, Aleja Lotników 32/46, 02-668 Warszawa
tel.: (+48) 22 843 70 01 | fax: (+48) 22 843 09 26 | www.ifpan.edu.pl
NIP: 525-000-92-75, Regon: 000326061